GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
產(chǎn)品概述：
GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設定程序，準確控制溫度200oC~1500oC（或者1200oC~1700oC），樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
結構&特點：
l 真空腔體為直徑6英寸的石英腔體，便于清潔和放入樣品
l 安裝有一個2英寸的樣品臺，并且樣品臺可以旋轉，使所制薄膜更加均勻
l 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，*高溫度可達到1500℃，并且配用專用氧化鋁舟，可裝入樣品
l 準確控溫：可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃
l 氣體流量端口和閥門內(nèi)置用于腔室凈化和CVD可能性
基本參數(shù)：
l 溫度：*高1500℃（1200℃以上＜1h）
l 建議升溫速率：≤20℃/ min（需根據(jù)工藝調(diào)整）
l 熱偶：B型或者S型熱偶
l 電源：AC220V，50Hz
l *大：6KW
溫控及加熱源：
采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測量和控制
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采用S型熱電偶（工作溫度為200℃-1500℃）
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可選B型熱電偶（工作溫度為1200℃-1700℃）
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安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器：可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC（如圖2）
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溫度控制器的時間設置以秒為單位，建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s（20oC/ min），在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s（10oC/min）
儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝
樣品臺：
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儀器頂部安裝有樣品臺，直徑為Φ50mm，并設置有擋板，方便控制蒸發(fā)鍍膜時間
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樣品臺可旋轉，增加鍍膜均勻性
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樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié)
進氣口：
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進氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應氣體，進行反應蒸發(fā)鍍膜
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進氣口安裝有一針閥，用于調(diào)節(jié)進氣流量
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程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀-GSL-1700X-EV4
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儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝，并用戶可額外選購鎢絲籃及氧化鋁坩堝
真空計（可選）：可選購一數(shù)顯防腐真空計，測量范圍為：3.8x10-5-1125Torr
膜厚檢測儀（可選）：
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可在本公司選購精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在濺射儀上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
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LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)
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同時可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD
真空系統(tǒng)：
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設備上有一KF25接口用于連接真空泵
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采用渦旋分子泵真空可達1.0E-5Torr，極限真空度可達4.0E-6Torr
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雙極旋片真空泵或干泵，可使儀器真空腔體的真空度達到10-2Torr
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真空度達到10-2torr時，可蒸發(fā)一些貴金屬，參考材料金和鉑，也可蒸發(fā)一些有機材料，可選購數(shù)顯防腐真空計PCG-554(測量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
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高真空度可達1.0E-5Torr（采用渦旋分子泵），此時可蒸發(fā)對氧敏感的材料，參考材料Al. Mg,
Li，分子泵上帶有復合真空計
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（*高可測量真空度為1.0E-7Torr）
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可在本公司選購各種真空泵和真空計
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可選購一個冷真空阱，以避免真空泵造成污染
外形尺寸：490mm*330mm*560mm
質(zhì)量認證：所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA/CE認證，若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。
使用提示：
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為了獲得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空時，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預加熱到500℃，保持2小時
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此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作，用于蒸鍍一些在常溫下對氧氣敏感的材料，比如金屬Li等，可在本公司選購開啟式手套箱VGB-6
使用注意事項：
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使用溫度高于1300℃時，保溫時間不可大于1小時，否則會損壞密封圈
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當腔體的各閥門關閉時，請勿開啟升溫程序或手動調(diào)節(jié)電流進行加熱
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當儀器正在蒸發(fā)材料時，不可打開泄氣閥或關閉真空泵，只有當加熱溫度降至100℃時，才可放氣或關閉真空泵
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蒸鍍電流不宜大于40A
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如誤將控溫儀表設為手動狀態(tài)，程序?qū)⒉荒苷＿\行
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此設備儀表程序為秒，200℃之前升溫速度不宜大于0.5℃/S
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如果用戶選購了STC-2型薄膜測厚儀，在選用取樣片時請按：鍍純金屬時用金取樣片，鍍合金時用銀取樣片
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鎢絲籃必須在真空狀態(tài)下（＜5Pa才能通電加熱，否則會被氧化）
